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利用层状 DSA 进行多排引导模板通孔制造.pdf

上传人: 芦苇 编号:651829 2025-05-01 32页 459.10KB

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本文主要研究了多行引导模板在层状自组装(Lamellar DSA)中的设计方法,以优化via层制造过程。作者考虑了设计约束,如模板形状限制、掩模冲突和BCP违规等问题,并提出了两种方法:一种是基于整数线性规划(ILP)的最优方法,另一种是启发式方法,以提高运行速度并找到近似最优解。实验结果显示,作者的方法在via数量、未解决via数量、组件数量和CPU时间等方面,与现有技术相比具有优势。例如,在mgc_des_perf_1_routed案例中,作者的ILP方法相较于原始布局减少了274,272个via,而启发式方法减少了91,683个via。此外,作者的方法在处理复杂案例时也表现出较高的效率和准确性。
"多行引导模板如何优化设计?" "如何通过ILP方法提高Via的利用率?" "引导模板冲突图是如何构建的?"
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