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cmp化学机械抛光

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2、段的化学机械平坦化应用场景有两类,一是用于形成光滑平整的界面,如应用于在层间介电层,Inter,Layer,Dielectric,抛光,二是用于形成内嵌的金属结构或者沟槽桩隔离,如铜互连与浅沟槽隔离的抛光。

3、段的化学机械平坦化应用场景有两类,一是用于形成光滑平整的界面,如应用于在层间介电层,Inter,Layer,Dielectric,抛光,二是用于形成内嵌的金属结构或者沟槽桩隔离,如铜互连与浅沟槽隔离的抛光。

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