等离子辅助和等离子增强原子层沉积的区别是什么？一文讲清

等离子辅助原子层沉积(AAPVD)和等离子增强原子层沉积(APEALD)都是常用的原子层沉积技术。它们都具有在技术上有许多优势，如更高的覆盖率、更好的准确度、可控制更小的尺寸等。这是一两个技术，但是它们有很多不同之处，而且它们在应用中有很多区别。下面将从原理、系统集成、工艺步骤、腐蚀性和机械强度等几方面来分析它们之间的差异。



首先是原理，等离子辅助原子层沉积技术是通过等离子辅助技术来活化原子，使其能够以原子的形式沉积到物体表面上，从而构成一个厚厚的膜层。其原理是：当传输到真空室的可用分子，由激活离子能量来活化原子构成表面。被激活的原子层，在加入到发生器中，形成原子流，从而形成一个原子膜层。而等离子增强原子层沉积技术是通过电子束来直接改变表面形状。原理是：电子注入被覆盖表面，以增强沉积材料的持续性，从而形成原子流的影响。

其次是系统集成问题。原子层沉积技术系统由真空室、激活设备和不同的控制器组成。 AAPVD需要一个真空室，一个发射枪，一台真空泵，一台激活模块，一节电子控制装置和操作平台，它们要实现一起协同工作。而APEALD系统由电子注入模块，介电带来能量模块，真空室，操作台，真空泵等部分组成，这些部件也要协同工作以实现目的。

第三是工艺步骤的差异。AAPVD技术的过程主要是先把真空室抽空并去除气体，激活发射枪，再用枪口把可用原子喷入表面，形成厚厚的原子层。APEALD技术的过程是先把真空室抽空，完全去除所有气体；再使电子加速到一定速度，并从电子枪中以一定角度射出；最后电子射入表面，形成一层原子层，并使材料的性质发生变化，从而形成厚厚的原子层。

第四是腐蚀性。AAPVD的腐蚀性较低，因为该技术只会产生一小部分原子离子，而这些原子离子不会导致表面腐蚀变化。而APEALD则具有较强的腐蚀性，因为它把高温高热电子离子射入表面，容易导致表面腐蚀。

最后是机械强度方面的差异。AAPVD技术产生的原子膜层机械性能较好，因为每一层膜层都能很好的覆盖基材，而且机械强度很高，不容易脱落。而APEALD由于在表面溅射的高温电子离子容易使原子膜层结晶疏松，因此机械强度较低，容易损坏和脱落。

综上所述，等离子辅助原子层沉积技术和等离子增强原子层沉积技术都是常用的原子层沉积方法，其原理、系统集成、工艺步骤、腐蚀性和机械强度方面都有所不同。从应用角度看，它们都具有自身特点，两者可根据用户的实际