拓荆科技-公司首次覆盖报告：国产薄膜沉积设备龙头成长动力充足-220622（36页）.pdf

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1、 请务必参阅正文后面的信息披露和法律声明 1 / 36 拓荆科技拓荆科技（688072.SH） 2022 年 06 月 22 日 投资评级：投资评级：买入买入（首次首次） 日期 2022/6/22 当前股价(元) 148.56 一年最高最低(元) 164.60/88.10 总市值(亿元) 187.90 流通市值(亿元) 38.88 总股本(亿股) 1.26 流通股本(亿股) 0.26 近 3 个月换手率(%) 506.21 股价走势图股价走势图 数据来源：聚源 国产国产薄膜薄膜沉积沉积设备龙头，设备龙头，成长动力充足成长动力充足 公司首次覆盖报告公司首次覆盖报告 刘翔（分析师）刘翔（分析师）

2、罗通（联系人）罗通（联系人） 证书编号：S0790520070002 证书编号：S0790120070043 国产薄膜沉积国产薄膜沉积设备设备龙头，首次覆盖给予龙头，首次覆盖给予“买入买入”评级评级 公司是国内半导体薄膜沉积设备厂商，同时是国内目前唯一产业化应用 PECVD和 SACVD 的国产厂商。受益于全球半导体行业的高景气度、国内新增晶圆产能建设的推进， 以及半导体制造工艺进步带来的沉积设备需求增长， 同时国产替代需求强烈，公司募投扩产，成长动力充足。我们预计 2022-2024 年公司可分别实现 EPS 1.04/1.60/2.98 元，归母净利润 1.31/2.03/3.77 亿元，

3、当前股价对应 PS 15.21/9.86/7.74 倍，首次覆盖给予“买入”评级。 薄膜沉积设备市场空间大，需求强劲，成长动力足薄膜沉积设备市场空间大，需求强劲，成长动力足 半导体行业景气带动设备稳定增长， 薄膜沉积是关键设备， 市场规模占半导体设备的 20%。根据 Maximize Market Research 数据统计，2021 年全球薄膜沉积设备市场规模为 190 亿美元，同比+10.5%，预计 2025 年有望达到 340 亿美元，2021-2025 年 CAGR 达 15.7%。行业基本由应用材料（AMAT） 、先晶半导体（ASMI） 、泛林半导体（Lam） 、东京电子（TEL）等

4、国际巨头垄断，国产替代空间较大。未来随着晶圆厂扩产带动设备需求、芯片制程升级，薄膜沉积设备需求量增加、国产替代，国内薄膜沉积设备厂商将迎来黄金发展机遇。 公司公司技术实力强大，具备稀缺性技术实力强大，具备稀缺性，客户资源优质，客户资源优质，成长动力充足，成长动力充足 公司重视研发，高研发投入，掌握核心技术，公司产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。在 PECVD、ALD 及 SACVD 设备领域，公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备， 满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉积工艺需求，目前公司也在持续进行先进技术的研发工作。客户资源优质，已经成功导入中芯国际、长江存储、华虹集团

5、等国内知名客户。目前公司合同负债维持高位，部分发出商品持续认证中，且募投扩产，未来产能和技术实力将进一步提高，成长动力充足。 风险提示：风险提示： 募投项目扩产不及预期、 行业竞争加剧风险， 行业景气度下滑风险、技术研发不及预期风险。 财务摘要和估值指标财务摘要和估值指标 指标指标 2020A 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入(百万元) 436 758 1,235 1,905 2,428 YOY(%) 73.4 74.0 63.0 54.2 27.4 归母净利润(百万元) -11 68 131 203 377 YOY(%) -40.7 -696.1 91.9 54.4

6、85.5 毛利率(%) 34.1 44.0 44.9 45.9 47.6 净利率(%) -2.6 9.0 10.6 10.7 15.5 ROE(%) -1.0 5.6 9.9 13.3 19.6 EPS(摊薄/元) -0.09 0.54 1.04 1.60 2.98 P/E(倍) -1635.4 274.4 143.0 92.6 49.9 P/B(倍) 16.7 15.8 14.2 12.3 9.9 数据来源：聚源、开源证券研究所 -60%-30%0%30%60%90%2021-062021-102022-022022-06拓荆科技沪深300开源证券开源证券 证券研究报告证券研究报告 公司首次