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拓荆科技-引领薄膜沉积设备进口替代业绩持续高速增长-220621(34页).pdf

上传人: 报*** 编号:78959 2022-06-22 34页 2.21MB

1、证券研究报告公司深度研究半导体 东吴证券研究所东吴证券研究所 1 / 34 请务必阅读正文之后的免责声明部分请务必阅读正文之后的免责声明部分 拓荆科技-U(688072) 引领引领薄膜沉积设备薄膜沉积设备进口替代进口替代,业绩持续高速,业绩持续高速增长增长 2022 年年 06 月月 21 日日 证券分析师证券分析师 鲍娴颖鲍娴颖 执业证书:S0600521080008 证券分析师证券分析师 周尔双周尔双 执业证书:S0600515110002 021-60199784 证券分析师证券分析师 黄瑞连黄瑞连 执业证书:S0600520080001 股价走势股价走势 市场数据市场数据 收盘价(元)

2、 154.00 一年最低/最高价 89.71/161.90 市净率(倍) 12.37 流通 A 股市值(百万元) 4,030.30 总市值(百万元) 19,477.73 基础数据基础数据 每股净资产(元,LF) 12.45 资产负债率(%,LF) 59.11 总股本(百万股) 126.48 流通 A 股(百万股) 26.17 相关研究相关研究 买入(首次) Table_EPS 盈利预测与估值盈利预测与估值 2021A 2022E 2023E 2024E 营业总收入(百万元) 758 1,264 1,861 2,578 同比 74% 67% 47% 39% 归属母公司净利润(百万元) 68 12

3、6 233 384 同比 696% 85% 84% 65% 每股收益-最新股本摊薄(元/股) 0.54 1.00 1.84 3.04 P/E(现价&最新股本摊薄) 284.40 154.04 83.70 50.68 Table_Summary 投资要点投资要点 本土半导体薄膜沉积设备龙头本土半导体薄膜沉积设备龙头,业绩持续快速增长,业绩持续快速增长 公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头,产品覆盖 PECVD、SACVD 和 ALD,其中PECVD 和 SACVD 是国内唯一一家产业化应用企业,相关产品成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户,引领进口替代同时,业绩实现快速增长。1)收入端:)

4、收入端:2021 年公司实现营收 7.58 亿元,2018-2021 年 CAGR 为 121%,2021 年 PECVD 收入6.75 亿元,占当年营收比重达 89.11%,为收入最大来源。2)利润端:)利润端:2018-2021 年公司扣非销售净利率为-212.23%、-24.86%、-13.11%和-10.82%,虽尚未真正实现盈利,但扣非销售净利率持续改善;我们注意到 2021-2022Q1 公司毛利率分别为 44.01%和47.44%,增幅明显,甚至略高于本土前道刻蚀龙头毛利率。我们认为规模效应下,期间费用率下降,公司盈利能力存在较大提升空间。截至截至 2021 年年 9 月月,公司

5、在手订单超,公司在手订单超过过 15 亿元亿元,2022Q1 末存货和合同负债分别达到末存货和合同负债分别达到 12.94 和和 7.80 亿元,分别较亿元,分别较 2021Q3末增长末增长 32%和和 75%,充足的订单,充足的订单有望支撑公司业绩有望支撑公司业绩持持续续快速增长快速增长。 薄膜沉积设备薄膜沉积设备是高是高价值量占比价值量占比环节环节,公司,公司产品竞争优势明显产品竞争优势明显 全球晶圆产能东移,中国大陆成为全球晶圆扩产中心,根据集微咨询,中国大陆未来 5 年将新增 25 座 12 英寸晶圆厂,总规划月产能将超过 160 万片,可见中国大陆对晶圆设备的需求有望长期维持高位。1

6、)薄膜沉积设备作为晶圆制造三大核心设备之一,在晶圆制造设备中价值量占比高达 25%,仅次于刻蚀设备,其中 PECVD 和 ALD在薄膜沉积设备中占比分别达到 33%和 11%。 2)先进制程工艺使得薄膜沉积设备的需求存在量价齐升逻辑,我们预计 2025 年全球&本土半导体薄膜沉积设备市场规模将分别达到 340 和 136 亿美元,2021-2025 年 CAGR 分别为 16%和 25%。3)全球半导体薄全球半导体薄膜沉积设备仍由膜沉积设备仍由 AMAT、LAM、TEL 等海外龙头主导,等海外龙头主导,公司公司在集成电路在集成电路 PECVD 和和SACVD 领域领域先发优势明显先发优势明显,

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本文主要介绍了拓荆科技-U(688072)作为本土半导体薄膜沉积设备龙头企业的相关情况。拓荆科技-U在PECVD和SACVD领域是唯一实现产业化应用的国内企业,产品已成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户,引领进口替代。公司业绩持续快速增长,2018-2021年营业收入CAGR达121%,2021年PECVD收入占比达89.11%。薄膜沉积设备是晶圆制造三大核心设备之一,2025年全球市场规模预计达340亿美元,公司作为本土稀缺的集成电路PECVD供应商,有望充分受益于晶圆产能东移和半导体设备国产替代趋势。公司PECVD工艺覆盖面持续扩大,客户验证推进,市场空间广阔;SACVD和ALD产业化持续突破,有望成为新的增长点。首次覆盖,给予“买入”评级。
拓荆科技业绩持续增长的原因是什么? 薄膜沉积设备市场前景如何? 拓荆科技如何布局海外市场?
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