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1、1/55请务必阅读正文之后的免责条款部分2024 年 07 月 15 日公司研究证券研究报告北方华创（北方华创（002371.SZ）深度分析深度分析塑造刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理平台企业，深度受益国产替代战略发展塑造刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理平台企业，深度受益国产替代战略发展投资要点北方华创立足半导体基础产品领域，深耕半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元器件等业务领域，现有六大研发生产基地，致力于成为半导体基础产品领域值得信赖的引领者。其半导体装备产品包括刻蚀机投资要点北方华创立足半导体基础产品领域，深耕半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元器件等业务领域，现有六大研发生产基地，致力于成

2、为半导体基础产品领域值得信赖的引领者。其半导体装备产品包括刻蚀机/PVD/ALD/CVD/氧化氧化/扩散炉扩散炉/清洗机清洗机/气体质量流量计等，设备需求上行气体质量流量计等，设备需求上行&国产进程加速背景下，公司将充分受益其全产业链布局。国产进程加速背景下，公司将充分受益其全产业链布局。布局刻蚀布局刻蚀/薄膜沉积薄膜沉积/清洗清洗/热处理四大应用领域，打造半导体设备平台型企业热处理四大应用领域，打造半导体设备平台型企业。半导体设备处于产业链上游，支撑制造和封装测试，半导体行业技术高、进步快，一代产品需要一代工艺，一代工艺需要一代设备，半导体设备是半导体产业的技术先导者，通常半导体设备的研发领

3、先半导体工艺 35 年。制造半导体芯片过程主要包括晶圆加工、刻蚀、光刻、沉积、离子注入、金属化等多个工艺步骤。北方华创设备涉及刻蚀/薄膜沉积/清洗/热处理四大应用领域，广泛应用于集成电路、先进封装、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏、平板显示等领域，为半导体、新能源、新材料等领域提供解决方案。随着公司设备平台型布局完善，公司将充分受益于半导体产业链自主可控发展战略。刻蚀设备：刻蚀设备：ICP 突破突破 12 英寸各技术节点，英寸各技术节点，CCP 实现逻辑实现逻辑/存储存储/功率多关键制程覆盖。功率多关键制程覆盖。（1）ICP：北方华创先后攻克了电感耦合脉冲等离子体源

4、、多温区静电卡盘、双层结构防护涂层和反应腔原位涂层等技术难题，实现了 12 英寸各技术节点的突破。公司多晶硅及金属刻蚀系列 ICP 设备实现规模化应用，完成了浅沟槽隔离刻蚀、栅极掩膜刻蚀等多道核心工艺开发和验证，助力国内主流客户技术通线，已实现多个客户端大批量量产并成为基线设备。（2）CCP：北方华创集成电路领域 CCP介质刻蚀设备实现了逻辑、存储、功率半导体等领域多个关键制程的覆盖，为国内主流客户提供了稳定、高效的生产保障，赢得客户信赖和认可。薄膜沉积：全面布局薄膜沉积：全面布局 PVD/CVD/ALD 等产品技术，提供前沿产品与创新解决方案。（等产品技术，提供前沿产品与创新解决方案。（1）

5、PVD:北方华创集成电路领域铜互连、铝垫层、金属硬掩膜、金属栅、硅化物（Silicide）等工艺设备在客户端实现稳定量产，成为多家客户的基线设备，并广泛应用在逻辑、存储等主流产线，同时也成功实现功率半导体、三维集成和先进封装、新型显示、化合物半导体等多个领域的量产应用。（2）CVD：北方华创基于十余年沉积工艺技术的丰富经验，布局拓展了 DCVD 和 MCVD 两大系列产品。针对介质和金属化学气相沉积关键技术需求，攻克了进气系统均匀性控制、压力精确平衡、双频驱动的容性等离子体控制、多站位射频功率均分控制等多项技术难题，实现金属硅化物、金属栅极、钨塞沉积、高介电常数原子层沉积等工艺设备的全方位覆盖

6、，关键技术指标均达到业界领先水平。清洗与热处理：提供多类型湿法清洗设备，立式炉逻辑清洗与热处理：提供多类型湿法清洗设备，立式炉逻辑/存储全覆盖。存储全覆盖。在清洗设备领域，北方华创经过多年的技术积累，先后突破了多项关键模块设计技术和清洗工艺技术，包括伯努利卡盘和双面工艺卡盘、高效率药液回收系统、热 SPM 工艺、热磷酸工艺、低压干燥工艺等，实现了槽式工艺全覆盖，同时高端单片工艺实现突电子|半导体设备投资评级买入-A(维持)股价(2024-07-12)328.57 元交易数据交易数据总市值（百万元）174,477.13流通市值（百万元）174,325.58总股本（百万股）531.02流通股本（百