中微公司-公司深度报告：刻蚀设备国产替代领军者内生外延驱动稳健成长 -230829（39页）.pdf

1、证券研究报告|公司深度|半导体 1/39 请务必阅读正文之后的免责条款部分 中微公司(688012)报告日期：2023 年 08 月 29 日 刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长 中微公司中微公司深度报告深度报告 投资要点投资要点 中国中国刻蚀设备和刻蚀设备和 MOCVD 设备龙头，设备龙头，逐步拓展薄膜沉积、逐步拓展薄膜沉积、Epi 设备设备。公司是国内领先的半导体刻蚀设备及 MOCVD 设备制造商，逐步向薄膜沉积设备、Epi设备延展。随着国产替代推进及公司产品力提升，公司营收利润快速增长，2022 年公司营业收入 47.4 亿元，同比增

2、长 53%，2017-2022 年 CAGR 为37%；实现归母净利润 11.7 亿元，同比增长 16%，2017-2022 年 CAGR 为108%。产品端，公司刻蚀设备已广泛应用于 65 nm到 5 nm逻辑和 64 层、128层 3D NAND 量产线；MOCVD 设备在全球氮化镓基 LED 设备占据龙头地位，二代 Mini LED、Micro LED、功率器件设备积极研发推进；薄膜沉积设备方面，公司已推出用于钨沉积的 CVD 和 ALD 设备，并积极推进硅锗外延 EPI设备研发。2022 年公司新签订单 63.2亿元，同比增加 53%。产品线的不断延展，推进公司市场空间持续拓展。自主可

3、控驱动国产化率提升，刻蚀设备龙头引领先进制程突破自主可控驱动国产化率提升，刻蚀设备龙头引领先进制程突破。刻蚀设备是集成电路三大核心设备之一，2022 年全球市场 220亿美元，占总设备市场的 22%。我们预计 2022-2025 年中国大陆刻蚀设备市场空间平均约 377 亿元/年。存储器件 3D化、逻辑芯片制程缩小，刻蚀设备需求量及要求大幅提升。公司在刻蚀设备领域深耕多年，CCP 设备行业领先，ICP 设备持续突破。CCP设备方面，公司市占率不断提升，2022 年付运 CCP 刻蚀设备 475腔，同比增长59%。公司 CCP 产品已覆盖 28nm及以上的绝大部分和 28nm以下的大部分刻蚀。逻

4、辑端针对 28nm及以下大马士革刻蚀已经入验证阶段，存储端高深宽比刻蚀已在客户端验证具有刻蚀60:1 深宽比结构的能力。截至 2023年二季度，公司累计生产付运 2500个 CCP 刻蚀反应台。ICP 设备方面，公司 Primo nanova 系列产品自推出以来市场迅速扩大，截至 2022年底出货量已达到 297 台，同时 ICP 设备产品种类不断丰富，分别推出 VE、UE、LUX 用于高深宽比结构刻蚀和高均匀性刻蚀。立足优势蓝光立足优势蓝光 LED 领域，发力高端领域，发力高端 LED、功率器件市场。、功率器件市场。MOCVD 常用于制造 LED、激光器、功率器件、射频器件等，其中 LED

5、为第一大应用。Mini/Micro LED 产业化与功率器件市场的发展带动 MOCVD 设备需求提升。公司氮化镓基 LED 设备处于全球龙头地位。2021 年针对 Mini LED 市场推出量产 MOCVD 设备，截至 2022年底累计出货量已超 120 腔。在功率器件市场方面，公司已推出氮化镓功率器件 MOCVD 设备并获得先进客户重复订单，目前碳化硅、二代氮化硅功率器件的设备积极研发中。内生外延协同发展，积极推进平台化布局内生外延协同发展，积极推进平台化布局。公司持续稳步推进三维发展战略，在保持刻蚀设备和 MOCVD 设备竞争优势的同时，向半导体薄膜沉积、检测设备延伸，并积极扩展 MEMS

6、、功率器件、太阳能领域等泛半导体设备，探索环保及医疗健康设备等市场机会。内生方面，公司布局薄膜沉积设备领域，成功推出钨 LPCVD、ALD 设备并在客户端进行量产验证，积极推进 ALD 氮化钛设备和锗硅外延 EPI 设备研发。外延方面，公司积极进行投资与并购，投资睿励仪器（量测设备）和拓荆科技（薄膜沉积）等，通过外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，平台化布局不断完善。盈利预测与估值盈利预测与估值：我们预计 2023-2025 年公司营业收入分别为 63.86、79.63、102.62亿元，同比增长 34.7%、24.7%、28.9%；归母净利润分别为 17.62、18.64、24.49亿元，同比