1、2022 年深度行业分析研究报告 3 正文目录正文目录 投资聚焦投资聚焦 . . 2 2 1.1. 清华团队深耕二十余载,打造国内清华团队深耕二十余载,打造国内 CMPCMP 设备龙头设备龙头 . 5 5 1.1 化学机械抛光设备龙头,打破国际厂商垄断 . 5 1.2 创始人为清华团队,四川国资委将为实控人 . 6 1.3 验证加速营收大幅增长,规模销售盈利显著改善 . 7 1.4 研发团队实力雄厚,巨额研发构筑技术优势 . 9 2.2. CMPCMP 设备市场需求增加,国内供给格局改善设备市场需求增加,国内供给格局改善 . 1212 2.1 晶圆平坦化关键设备,技术迭代趋缓 . 12 2.2
2、 “国产替代+制程迭代”需求增加,CMP 设备市场规模稳步提升 . 14 2.3 应材、荏原垄断市场,华科中国市场突围 . 16 3.3. CMPCMP 设备业务放量,晶圆再生业务快速发展设备业务放量,晶圆再生业务快速发展 . 1818 3.1 12 寸 CMP 设备商业化,持续受益晶圆厂扩产潮. 18 3.2 晶圆再生市场空间可观,依托设备能力快速发展 . 21 3.3 设备累计出货增加,维保业务持续扩大 . 22 3.4 募投项目扩大产能,支持高端设备研发 . 23 图表目录图表目录 图表图表1:华海清科专注于:华海清科专注于CMP设备及相关业务设备及相关业务 . 5 图表图表2:华海清科
3、自成立以来始终专注于:华海清科自成立以来始终专注于CMP领域领域 . 6 图表图表3:发行后华海清科股权结构图:发行后华海清科股权结构图 . 6 图表图表4:股权划转后公司实:股权划转后公司实控人将为四川省国资委控人将为四川省国资委 . 7 图表图表5:营收实现大幅上涨:营收实现大幅上涨 . 7 图表图表6:扣非归母扭亏为盈、波动较大:扣非归母扭亏为盈、波动较大 . 7 图表图表7:收入以:收入以CMP设备为主,耗材和服务为辅设备为主,耗材和服务为辅. 8 图表图表8:2021年年CMP设备收入占比达到设备收入占比达到86% . 8 图表图表9:毛利:毛利率逐渐上升达到率逐渐上升达到44.73
4、%,超过同行,超过同行 . 8 图表图表10:净利率转正,目前略高于行业平均水平:净利率转正,目前略高于行业平均水平 . 8 图表图表11:三费占比快速下降:三费占比快速下降 . 9 图表图表12:三费费用率逐渐降至行业平均水平:三费费用率逐渐降至行业平均水平 . 9 图表图表13:近年公:近年公司前三大客户均为国内一线厂商司前三大客户均为国内一线厂商 . 9 图表图表14:公司前五大客户占比有所下降、规模上升:公司前五大客户占比有所下降、规模上升 . 9 图表图表15:公司研发人员占比总人数三分之一:公司研发人员占比总人数三分之一 . 10 图表图表16:员工教育素质高,本科及以上学历占比:
5、员工教育素质高,本科及以上学历占比62% . 10 图表图表17:公司研发费用同比大幅增长:公司研发费用同比大幅增长 . 10 图表图表18:公司研发费:公司研发费用率高于行业用率高于行业 . 10 图表图表19:公司核心技术国内领先,应用情况良好:公司核心技术国内领先,应用情况良好 . 11 图表图表20:公司在研项目进展良好,技术储备丰富:公司在研项目进展良好,技术储备丰富 . 11 图表图表21:CMP平坦化效果图(平坦化效果图(CMOS结构剖面图)结构剖面图) . 12 图表图表22:CMP工艺相对传统平坦化工艺优势明显工艺相对传统平坦化工艺优势明显 . 13 图表图表23:CMP广泛
6、应用于半导体制造工艺中广泛应用于半导体制造工艺中 . 13 图表图表24:CMP抛光工作原理、抛光工作原理、CMP设备的相关配套组成设备的相关配套组成 . 14 4 图表图表25:中国大陆半导体设备与国产设备销售额均处于高速增长:中国大陆半导体设备与国产设备销售额均处于高速增长 . 15 图表图表26:半导体设备国产化率仍处于较低水平:半导体设备国产化率仍处于较低水平 . 15 图表图表27:中国半导体设备细分领域国产化情况分析:中国半导体设备细分领域国产化情况分析 . 15 图表图表28:CMP步骤数量随着工艺升级不断提升步骤数量随着工艺升级不断提升 . 16 图表图表29:不同芯片制程下: