拓荆科技-深度报告：薄膜沉积设备龙头引领国产替代大潮崛起-220622（27页）.pdf

1、 http:/ 1/27 请务必阅读正文之后的免责条款部分 Table_main 深度报告 拓荆科技拓荆科技(688072) 报告日期：2022 年 6 月 22 日 薄膜沉积设备龙头，引领国产替代大潮崛起薄膜沉积设备龙头，引领国产替代大潮崛起 拓荆科技深度报告 table_zw 公司研究半导体设备 ：蒋高振 执业证书号：S1230520050002 王华君 执业证书号：S1230520080005 ：021-80106844 021-80106844 ： 报告导读报告导读 公司是国内薄膜沉积设备龙头企业，专注 PECVD、SACVD、ALD 设备领域，薄膜沉积设备市场空间广阔，海外企业寡头垄

2、断，国产化率较低，国产化需求将持续旺盛。公司产品竞争力强，存货/合同负债快速增长，同时扩产/研发双管齐下，成长性与确定性兼备。 投资要点投资要点 国内半导体薄膜沉积设备龙头，收入规模快速成长国内半导体薄膜沉积设备龙头，收入规模快速成长 公司深耕薄膜沉积设备行业十二载，主要产品为 PECVD 设备、ALD 设备和SACVD 设备。公司收入规模快速成长，2021 年实现营收 7.58 亿元（同比+73.99%） ，22Q1 营收 1.08 亿元（同比+86.21%） ，呈现边际提速的趋势。22Q1公司存货余额 12.94 亿元，较 2021 年末上涨 33.50%，已发出未确认收入商品占比较高，此

3、外， 2022Q1 公司合同负债达 7.8 亿元，较 2021 年末增长 2.92 亿元，预示在手订单充裕，公司未来成长性/确定性兼备。 薄膜沉积设备国产化率仍较低，国产替代空间广阔薄膜沉积设备国产化率仍较低，国产替代空间广阔 薄膜沉积设备同光刻机、刻蚀机并称晶圆制造三大核心设备，单机价值高/市场空间大，根据 Maximize Market Research 数据，2020 年全球半导体薄膜设备市场空间为 172 亿美元，预计 2025 年达到 340 亿美元。市场格局方面，全球薄膜沉积设备由 AMAT/LAM/TEL 等海外企业寡头垄断， 根据我们估算 2021 年国产化率不足 10%，国内

4、拓荆/华创/中微/盛美等企业在各细分领域均有布局，在国内晶圆厂持续扩产推动下，核心企业将充分受益国产化大潮。 产品产品/客户优势尽显，扩产客户优势尽显，扩产/研发双管齐下，成长动能充沛研发双管齐下，成长动能充沛 公司客户资源优质，与中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂长期深度合作；设备工艺覆盖面广，核心产品PECVD 设备已适配 180-14nm 逻辑芯片、19/17nmDRAM 及 64/128 层 FLASH制造工艺需求，关键性能参数比肩国际龙头；同时，公司募投 10 亿用于扩大产能以及进一步加码先进制程 PECVD/SACVD/ALD 设备的研发，

5、维持自身在先进制程技术的优势，有望引领薄膜沉积设备国产化持续崛起。 盈利预测及估值盈利预测及估值 公司作为国内半导体薄膜沉积设备龙头，在国内晶圆产线持续扩充的背景下，将优享设备国产化带来的红利，稳健预计公司未来三年营收分别为12.56/18.33/24.86 亿元，同比增长 65.74%/45.89%/35.64%；实现归母净利润1.50/2.42/3.87 亿元， 同比增长 119.08%/61.59%/59.70%， 考虑到公司产品布局完善、产品力优秀、行业龙头地位显著，叠加下游晶圆厂持续扩产以及设备国产化趋势，我们认为中长期来看公司仍具备广阔成长空间。 风险提示风险提示 晶圆厂扩产进展不

6、及预期风险；疫情管控导致物流中断风险；技术更新风险；关键技术人才流失风险；产品验收周期较长的风险；核心技术泄密风险；市场竞争风险。 table_invest 评级评级 买入买入 上次评级 首次评级 当前价格 ￥154.00 单季度业绩单季度业绩 元元/ /股股 4Q/2021 0.10 1Q/2021 -0.11 table_stktrend 公司简介公司简介 相关报告相关报告 table_research 分析师分析师：蒋高振：蒋高振 执业证书号：S1230520050002 分析师分析师：王华君王华君 执业证书号：S1230520080005 联系人：厉秋迪联系人：厉秋迪 联系人：林子尧联