【国盛证券】中微公司（688012）-营收持续高增，设备平台化布局渐丰-250418（3页）.pdf

1、证券研究报告|年报点评报告 请仔细阅读本报告末页声明请仔细阅读本报告末页声明 gszqdatemark 中微公司（中微公司（688012.SH）营收持续高增，设备平台化布局渐丰营收持续高增，设备平台化布局渐丰 中微公司发布中微公司发布 2024 年年报年年报。2024 年公司实现营收 90.65 亿元，yoy+44.7%，实现归母净利润 16.16 亿元，yoy-9.5%，实现扣非后归母净利润 13.88 亿元，yoy+16.5%，实现毛利率 41.06%，净利率 17.8%。公司 2024 年研发投入达 24.52 亿元，yoy+94.31%，相较于2023 年增长 11.9 亿元。单季度来

2、看，公司 24Q4 实现营收 35.58 亿元，yoy+60.11%，qoq+72.76%，实现归母净利润7.03亿元，yoy+12.24%，qoq+77.32%，实现毛利率39.26%，实现净利率 19.73%。公司 2024 年人均销售超 400 万元，达到设备产业国际先进水平。刻蚀设备装机量高增，市占率持续提升刻蚀设备装机量高增，市占率持续提升。2024 年公司刻蚀设备实现营收 72.77 亿元，同比增长 54.72%，近四年收入年均增长超 50%。公司刻蚀设备可覆盖 95%以上的刻蚀应用需求。分产品来看：1）CCP 设备：设备：2024 年全年 CCP 刻蚀设备生产付运超过 1200

3、反应台，创历史新高，较2023 年增长逾 100%，累计装机量超过 4000 反应台，连续十年保持大于 30%的年平均复合增长率。双反应台 PrimoD-RIE、PrimoAD-RIE、PrimoAD-RIEe，单反应台PrimoHD-RIE 等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，具有动态可调电极间距功能的双反应台 PrimoSD-RIE 进入先进逻辑生产线验证关键工艺。用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品 PrimoHD-RIEe，和用于超高深宽比刻蚀工艺的 PrimoUD-RIE 实现规模付运，已有的刻蚀产品已经对 28 纳米以上的绝大部分 CCP 刻蚀应用和 28纳米及以下的大部

4、分 CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。2）ICP 设备：设备：在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的 50 多个客户的生产线上量产，并继续验证更多 ICP 刻蚀工艺。2024 年，ICP刻蚀设备在客户端的累计安装数达到 1025 个反应台，近四年年均增长大于 100%，适用于更高深宽比结构刻蚀的 Nanova LUX-WT 在客户端投入量产，Nanova LUX-Cryo 在客户端认证中。下一代 ICP 刻蚀设备 Primo Nanova 2G 在实验室已经搭建完成 Alpha反应腔，正展开工艺开发。MOCVD 设备设备保持保持行业行业领先领先地位，

5、拓宽下游应用领域地位，拓宽下游应用领域。2024 年 MOCVD 设备实现营收 3.79亿元。公司持续保持国际氮化镓基 MOCVD 设备市场领先地位。其中 PRISMO UniMax 产品凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，在 Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先。Micro-LED 应用的设备样机 Preciomo Udx 验证顺利，已基本满足客户生产要求。同时，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，正与多家领先客户开展商务洽谈，目前已付运样机至国内领先客户开展生产验证。LPCVD 设备实现首台销售设备实现首台销售，打开薄膜沉积市场，打开薄膜沉积市场。公司已

6、开发出六款薄膜沉积产品推向市场，钨系列薄膜沉积产品：CVD 钨设备，HAR 钨设备和 ALD 钨设备，可覆盖存储器件所有钨应用，已通过关键存储客户端现场验证，并获得客户重复量产订单。LPCVD 设备 2024 年实现首台销售，全年设备销售约 1.56 亿元，LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破 150 个反应台，2024 年得到约 4.76 亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场。股权激励深度股权激励深度绑定优秀人才，彰显公司发展信心。绑定优秀人才，彰显公司发展信心。为了进一步建立、健全公司长效激励机制，充分调动公司员工的积极性，公司预计进行新一期股权激励，拟向激励对象授予