拓荆科技-半导体薄膜沉积设备龙头上市后驶入成长快车道-220506（34页）.pdf

1、 上市公司 公司研究 /公司深度 证券研究报告 机械设备 2022 年 05 月 06 日 拓荆科技 (688072) 半导体薄膜沉积设备龙头，上市后驶入成长快车道 报告原因：首次覆盖 增持（首次评级） 投资要点： 国内半导体薄膜沉积设备龙头，业绩进入加速阶段。公司深耕半导体薄膜沉积设备领域，产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三大系列。目前已形成覆盖二十余种工艺型号的设备，可以满足客户对于不同材料、不同芯片结构薄膜沉积工序的设备需求。公司产品广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，累计发货超 1

2、50 台，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，打破了国际厂商对国内市场的垄断。2018-2021 年，公司营收 CAGR 高达 120.56%，呈现加速增长态势。 薄膜沉积设备是集成电路制造的关键设备，预计 25 年全球市场规模达 340 亿美元。根据ASMI 数据，2015-2021 年，集成电路制造设备投资中，刻蚀&清洗、光刻、薄膜沉积分别占设备投资额的 25%、20%、20%，属于前三大核心工艺设备。预计 25 年全球半导体薄膜沉积设备市场规模扩大至 340 亿美元，保持年复合 14.6%的增速

3、。届时拓荆科技覆盖的国内 PECVD 设备、ALD 设备市场规模将分别达 37.03、12.34 亿美元。 国产化大背景下公司显著受益，上市后新产品产业化进程有望加快。2021 年，中国大陆地区半导体设备销售额占全球的 28.86%（全球第一大市场） ，而国内自给率仅有 5%左右。在薄膜沉积设备环节，东京电子（TEL） 、先晶半导体（ASMI） 、应用材料（AMAT） 、泛林半导体（Lam）四大厂商寡头竞争。拓荆科技 2019-2020 年 PECVD 设备中标数量占长江存储、上海华力、无锡华虹和上海积塔四家招标总量的 17%，SACVD 设备约占 25%。在自主可控大背景下已经实现了较快的发

4、展，本次上市募资 22.73 亿元，用于先进制程的产品研发，新产品产业化开始驶入快车道。 首次覆盖给予“增持”评级。预计公司 22-24 年营业收入分别为 11.68、16.85、23.49亿元，同比增长 54.06%、44.28%、39.42%。考虑到公司扣非后尚未实现盈利（主要系公司处于高研发投入期，非经常性损益中计入其他收益的政府补助占比较高，由于政府补助与公司研发投入高度相关，我们按照研发投入预测 22-24 年其他收益分别为 1.8、2.0、2.2 亿） ，我们使用 PS 法估值，22-24 年可比公司平均 PS 分别为 14X、10X、8X，公司22-24 年 PS 分别为 12X

5、、8X、6X。公司估值略低于可比公司均值，公司是国内薄膜沉积设备行业的领军企业，我们建议给予可比公司平均 PS。因此，首次覆盖给予“增持”评级。 风险提示。国际贸易摩擦加剧影响公司供应链安全的风险；技术人员流失及无法持续引入高端技术人才的风险；下游晶圆厂投资周期波动的风险；市场竞争加剧的风险。 市场数据： 2022 年 05 月 05 日 收盘价（元） 110.85 一年内最高/最低（元） 121/88.1 市净率 8.9 息率（分红/股价） - 流通 A 股市值（百万元） 2901 上证指数/深证成指 3067.76/11046.38 注： “息率”以最近一年已公布分红计算 基础数据: 20

6、22 年 03 月 31 日 每股净资产（元） 12.45 资产负债率% 59.11 总股本/流通 A 股 （百万） 126/26 流通 B 股/H 股（百万） -/- 一年内股价与大盘对比走势： 证券分析师 王珂 A0230521120002 李蕾 A0230519080008 刘建伟 A0230521100003 研究支持 张婧玮 A0230122010001 联系人 张婧玮 (8621)23297818转 财务数据及盈利预测 2021 2022Q1 2022E 2023E 2024E 营业总收入（百万元） 758 108 1,168 1,685 2,349 同比增长率（%） 74.0 8