2022年国产光刻胶行业发展研究报告（44页）.pdf

1、2022 年深度行业分析研究报告 -3- 证券研究报告 目目 录录 1、 半导体工业发展的基半导体工业发展的基石石光刻技术光刻技术 . 6 6 1.1、 集成电路的夕与今 . 6 1.2、 摩尔定律与光刻工艺 . 7 1.3、 光刻工艺的影响因素 . 8 1.4、 误区纠正：光刻工艺分辨率技术节点 . 10 2、 “半导体材料皇冠上的明珠半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶光刻胶 . 1111 2.1、 负性光刻胶最传统的光刻胶 . 12 2.2、 非化学放大型正性光刻胶重氮萘醌/酚醛树脂体系光刻胶（DNQ-Novolac） . 13 2.2.1、 重氮萘醌型感光化合物（PAC） . 13 2.2.

2、2、 酚醛树脂及其它组成成分 . 15 2.3、 DUV 光刻胶化学放大型 KrF & ArF 光刻胶 . 15 2.3.1、 光致产酸剂（Photo-Acid Generator，PAG） . 16 2.3.2、 DUV 光刻胶的树脂 . 16 2.3.3、 浸没式 ArF 光刻胶的额外组分表面隔水涂层 . 18 2.4、 EUV 光刻胶 . 19 2.5、 光刻胶的生产与验证流程 . 20 3、 为什么我们看好大陆半导体光刻胶产业？为什么我们看好大陆半导体光刻胶产业？ . 2222 3.1、 政策端“强化国家战略科技力量”，行业政策与“大基金”助力突破“卡脖子”领域 . 22 3.2、 市

3、场端乘国内成熟制程产能增长东风，从中低端产品开始发力 . 24 3.3、 日本光刻胶厂商给予我们的启发 . 28 4、 投资建议投资建议 . 3131 4.1、 彤程新材：光刻胶业务持续放量，布局 ArF 项目推动公司电子材料平台建设 . 31 4.2、 晶瑞电材：光刻胶与湿电子化学品同步推进，半导体材料国产替代进程加速 . 34 4.3、 南大光电：ArF 光刻胶通过客户技术验证，研发进度处于行业领先地位 . 36 4.4、 久日新材：国内光引发剂行业龙头，进军光刻胶产业布局关键光敏剂原料 . 39 -4- 证券研究报告 图目录图目录 图 1：1946 年世界第一台通用电子计算机 ENIAC

4、 . 6 图 2：1954 年世界第一台晶体管化计算机 TRADIC . 6 图 3：华为麒麟 9000 芯片 . 6 图 4：搭载有麒麟 9000 芯片的华为 Mate 40 Pro 手机 . 6 图 5：摩尔定律提出者 & Intel 公司联合创始人：戈登 摩尔 . 7 图 6：光刻工艺示意图 . 8 图 7：光刻技术分辨率随着曝光光源波长的缩短而不断提升 . 9 图 8：浸没式光刻能够以更大的角度在光刻胶中成像示意图 . 10 图 9：鳍式场效应晶体管（FinFET）结构示意图 . 10 图 10：台积电技术节点与栅周期和金属周期的对应关系 . 10 图 11：半导体光刻胶的分类 . 1

5、1 图 12：正性光刻胶与负性光刻胶曝光结果对比示意图 . 12 图 13：聚乙烯醇肉桂酸酯的二聚反应. 12 图 14：环化橡胶-双叠氮系负性光刻胶光聚合反应机理 . 12 图 15：典型负性光刻胶 SU-8 的溶胀现象示意图 . 13 图 16：重氮萘醌磺酸酯的光解反应历程 . 14 图 17：基于氢键作用的溶解抑制机理. 14 图 18：基于碱催化偶联反应的溶解抑制机理 . 14 图 19：部分高性能感光化合物 PAC 中用到的骨架化合物 . 14 图 20：非化学放大型光刻胶（左）和化学放大型光刻胶（右）在 DUV 条件下的断面形貌 . 15 图 21：部分具有代表性的用于 ArF 光

6、刻胶的光致产酸剂 . 16 图 22：用于 ArF 光刻胶的聚甲基丙烯酸酯类树脂体系的常见侧链基团 . 18 图 23：显影液可溶性表面隔水涂层和光刻胶自生成表面隔水涂层的使用示意图 . 19 图 24：光刻胶的生产工艺流程 . 20 图 25：光刻胶的验证流程 . 21 图 26：国家大基金一期股东结构 . 24 图 27：国家大基金二期股东结构 . 24 图 28：2007-2021 年晶圆制造与封装材料市场规模(十亿美元) . 25 图 29：2016-2021 年全球半导体材料市场分布(十亿美元) . 25 图 30：2021 年不同晶圆制造材料的市场规模占比 . 25 图 31：20