【公司研究】至纯科技-高纯工艺龙头发力湿法清洗设备-20200113[25页].pdf

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【公司研究】至纯科技-高纯工艺龙头发力湿法清洗设备-20200113[25页].pdf

1、 1 证券研究报告证券研究报告 公司研究/首次覆盖 2020年01月13日 中小市值中小市值/中小市值中小市值 当前价格(元): 32.56 合理价格区间(元): 35.9339.07 孔凌飞孔凌飞 执业证书编号:S0570517040001 研究员 021-28972083 王涛王涛 执业证书编号:S0570519110001 研究员 021-28972053 资料来源:Wind 高纯工艺龙头,发力湿法清洗设备高纯工艺龙头,发力湿法清洗设备 至纯科技(603690) 高纯工艺系统国产龙头,布局半导体湿法清洗设备高纯工艺系统国产龙头,布局半导体湿法清洗设备 公司持续受益于下游泛半导体行业高景气

2、度。中国集成电路市场已经成为 全球第一大市场,半导体制造业国产化是主流趋势。公司对标国际一流企 业,为下游行业提供高纯工艺系统整体解决方案,横向布局具有国产替代 力的湿法清洗设备。公司未来增长主要来自于半导体湿法清洗设备放量及 延伸的晶圆回收业务,以及并购的波汇科技在光传感领域的增长。我们预 计公司 2019-2021 年 EPS 分别 0.39/0.73/1.19 元, 目标价 35.93-39.07 元, 首次覆盖,给予“增持”评级。 国产替代驱动,高纯工艺市场空间广阔国产替代驱动,高纯工艺市场空间广阔 根据 SEMI 预计,2020 年中国半导体设备市场规模将达 179 亿美元, 占全

3、球市场 20%。我国集成电路市场高度依赖进口,国家出台多项利好政策, 设立了国家集成电路产业基金投资制造、设计、封测、装备材料。行业发 展和政策扶持有望带动高纯工艺市场持续增长,我们预计 2020 年中国高 纯工艺系统市场有望达 73.03 亿元,2018-2020 年复合增长率 24%。 产品具备国产代替能力产品具备国产代替能力,重视自主研发实力,重视自主研发实力 高纯工艺水平已经实现 ppb(十亿分之一)级的不纯物控制。湿法设备领 域同时布局槽式和单片式清洗机,二者技术水平均可提供 812 寸晶圆制 造中所需的湿法工艺,成功进入 SK 海力士、中芯国际、华力微电子、长 江存储的供应链。公司

4、具备高度自主研发水平,实现了设备高度自产,有 效控制生产成本。目前公司拥有覆盖气体类系统,化学品系统、液体类系 统等 41 项核心技术产品,多项核心产品处于研发阶段,技术储备充足。 收购波汇科技收购波汇科技+可转债募投,业务版图再扩大可转债募投,业务版图再扩大 波汇科技的光感器系统可以有效的对高纯工艺系统及工艺制程设备中的温 度、压力、溶液浓度、液体泄漏、气体浓度实施精准地监控,光传感技术 协同效应提高产品竞争力,有望实现智慧工厂转型升级。公司 2019 年 12 月 20 日发行 3.56 亿元可转债,2 亿元用于晶圆再生基地项目,主要开展 再生晶圆的加工服务,达产后将实现年产 12 英寸硅

5、再生晶圆 84 万片的产 出能力,填补安徽省内空白。 高纯工艺系统国产龙头,首次覆盖并给予“高纯工艺系统国产龙头,首次覆盖并给予“增持增持”评”评级级 我们预计公司 2019-2021 年实现收入 13.05、18.10 及 25.44 亿元,增速 93.60%、38.71%和 40.54%。19-21 年公司净利润分别为 1.01/1.90/3.07 亿元,对应 EPS 分别 0.39/0.73/1.19 元,对应 PE 为 84、44、27 倍。我 们对公司高纯业务、传感器业务采用市盈率 PE 方法估值,对半导体业务 采用市销率 PS 方法估值,各部分对应 2020 年目标市值为 28.7

6、5-31.94、 21.12-22.44、43.2-46.8 亿市值,目标总市值 93.07-101.18 亿元,对应目 标价 35.93-39.07 元,首次覆盖,给予“增持”评级。 风险提示:半导体政策推进、资金扶持不及预期;清洗设备研发投入和技 术突破不及预期;下游市场对高纯工艺系统和半导体清洗设备需求降低; 关键零部件采购不足;并购子公司业绩不及承诺。 总股本 (百万股) 258.91 流通 A 股 (百万股) 208.71 52 周内股价区间 (元) 14.55-35.45 总市值 (百万元) 8,430 总资产 (百万元) 2,993 会计年度会计年度 2017 2018 2019

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