【公司研究】至纯科技-首次覆盖：受益国产替代大潮单片清洗设备即将批量交付-210602（19页）.pdf

1、1、光阻去除设备(PRS) ：可以去除离子注入或刻蚀工艺后的光刻胶与有机残留物，为清洗步骤最多的工艺;2、预清洗设备(Pre Clean)：为炉管前的预清洗工艺设备，主要为氧化或沉积工艺制备无氧化物表面，并去除颗粒与有机残留物，解离并去除晶圆表面的微量金属，是集成电路最重要的清洗工艺之一;3、有机溶剂清洗设备(Solvent)：使用有机溶剂来去除金属刻蚀或孔洞刻蚀(后端工艺)后残留在晶圆上的聚合物;4、金属剥离设备(metal lift off)：透过剥离光刻胶的过程，将多余的贵重金属或稀有金属(金、银、铂金、铟等)剥离，保留需要的金属导线并回收贵重金属。单片设备：主要用于去胶及去胶后清洗、炉

2、管及长膜前清洗、氧化层/氮化硅刻蚀、铜/钛金属刻蚀、聚合物去除、擦片清洗、化学机械研磨后清洗，除先进制程外，还可用于高温硫酸、高温磷酸、二硫体清洗、乙丙醇干燥、晶焙清洗、减薄、金属碎屑去除等特殊工艺。湿法工艺设备获得国内一线大厂重复订单。2019 年，公司启东生产基地建成，中芯、德州仪器、燕东、华润等用户均有重复共买公司湿法装备，同时，湿法装备新订单中增加华虹 ICRD、中车时代电气、中国台湾力晶、湖南楚微、新晟、瀚天天成、华为等用户。2018 年 4 月，公司中标中心绍兴特种工艺线湿法设备，用于铜/金金属湿法剥离，2019 年3 月，公司获得中芯绍兴重复订单，用于晶圆刻蚀清洗及金属层去除清洗。2019 年8 月，公司交付4 台湿法设备到中芯绍兴工厂(重复订单)。2018 年10 月，公司中标燕东科技槽式清洗设备，用于硅片清洗/硅片剥胶工序，2020 年6 月和 2021 年4 月，燕东科技多次下达重复订单。 2019 年 8 月，公司中标湖南楚微槽式设备订单(5 台报价 3504 万人民币)，2021 年3 月再次获得订单(3 台报价1599 万人民币)。