中微公司：2022年半年度报告.PDF

1、2022 年半年度报告 1/163 公司代码：688012 公司简称：中微公司 中微半导体设备（上海）股份有限公司中微半导体设备（上海）股份有限公司 20222022 年半年度报告年半年度报告 2022 年半年度报告 2/163 中微公司董事长尹志尧致辞中微公司董事长尹志尧致辞 尊敬的各位股东、伙伴们、朋友们，大家好！我谨代表中微公司董事会、公司管理层和全体员工，向各位股东和社会各界对中微公司的大力支持表示衷心的感谢！数码产业越来越成为国民经济发展的最重要的引擎，作为数码产业的基石，加工集成电路和各种微观器件的半导体设备产业，更成为人们最关注的硬科技产业。作为国内外半导体高端设备的领先公司，中

2、微公司顺应这一形势，迎来了大发展的机会。今年上半年，在上海新冠疫情严重肆虐的情况下，公司坚持“封控不停产，营运零感染”，与客户和供应厂商密切合作，在复杂的形势中紧抓机遇，产量和质量齐头并进，取得了超预期的成绩。在过去的十年中，公司的营业收入一直以高于 35%的年平均增长速度持续增长。在 2021 年比 2020 年全年新增订单金额增长 90.46%达到 41.29 亿元、营业收入增长 36.72%达到 31.08 亿元的基础上，公司 2022 年上半年新签订单金额又同比增长了约 61.83%达到 30.57 亿元，营业收入同比增长了 47.30%达到 19.72 亿元，扣非归母净利润同比增长了

3、 615.26%达到 4.41 亿元。公司的综合竞争优势继续得到强化和提升，各项营运的指标 KPI 已达到国际先进半导体设备企业的水平。公司特别重视团队总能量的最大化和在市场上竞争的净能量最大化，劳动生产率不断提高，报告期内人均年化营业收入已达到 350 万元。今年上半年公司还制定并发布了“中微防新冠 40 条守则”和“防疫小贴士”，对外分享公司防疫及复工复产的成功实践经验，起到了很好的作用。由于光刻机的波长限制以及存储器件从二维到三维的演变，等离子体体刻蚀机已成为集成电路前端设备销售增长最快的设备，全球超过了相当于 1400 亿人民币的市场，我国达到约 350 亿人民币市场。作为公司的主打产

4、品，我们经过 18 年的努力，已经开发出有技术创新和产品差异化的、完整的刻蚀设备系列，可以覆盖绝大多数的刻蚀应用。包括 CCP 电容性高能等离子体刻蚀设备和 ICP 电感性低能等离子体刻蚀设备。而且这两种设备既有单反应台的反应器，可加工最高端的应用，也有双反应台2022 年半年度报告 3/163 的反应器，通过一次加工两片晶圆，为客户提供极高输出量和极低加工成本的解决方案。今年上半年，公司坚持以市场和客户需求为导向，积极应对复杂形势，继续加大研发投入和业务开拓力度，等离子体刻蚀设备及 MOCVD 设备等核心业务保持了高速和稳定的增长。公司的 CCP 电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到众多客户的

5、批量订单，市场占有率不断提升，在一些主要客户的生产线上已达到 30%甚至更高的市场占有率；产品正在国际一流的 5 纳米晶圆生产线的部分刻蚀应用上稳定可靠的进行大生产，并在 5 纳米以下的器件试生产上取得可喜的进展。ICP 电感性低能等离子体刻蚀设备刻蚀线宽均匀性已达到 1 0.25 纳米的水平，在进入市场三年后已打下坚实的基础，不断地核准更多的刻蚀应用，年销售额以超过 100%的速度持续增长。公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。公司经过十多年的努力，制造氮化镓基 LED 的关键设备 MOCVD 设备已成为国内和国际第一的占绝对领先

6、地位的设备。公司新开发的制造 Mini-LED 蓝光和绿光器件的 MOCVD 设备达到了单腔 41 片 4 英寸外延芯片加工能力，发光波长的均匀性达到 1 0.8 纳米水平。在去年进入市场连续获得批量订单的基础上，今年上半年又获得了多家客户的大批量订单。公司也正在开发用于氮化镓和碳化硅功率器件和制造Micro-LED 的 MOCVD 专用设备。除此以外，公司也在开发集成电路前端所需要的低压化学气相沉积设备（LPCVD）和生长硅及锗硅极关键的外延设备（EPI），并已取得了可喜的进展。公司还在筹划开发用于更先进微观器件制程的薄膜设备和刻蚀设备。中微开发的一系列微观加工的设备产品都已在性能和性价比上