中微公司:2021年年度报告摘要.PDF

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中微公司:2021年年度报告摘要.PDF

1、公司代码:688012 公司简称:中微公司 中微半导体设备(上海)股份有限公司中微半导体设备(上海)股份有限公司 20212021 年年度报告摘要年年度报告摘要 第一节第一节 重要提示重要提示 1 1 本年度报告摘要来自年度报告全文,为全面了解本公司的经营成果、财务状况及未来发展规本年度报告摘要来自年度报告全文,为全面了解本公司的经营成果、财务状况及未来发展规划,投资者应当到划,投资者应当到 网站仔细阅读年度报告全文。网站仔细阅读年度报告全文。2 2 重大风险提示重大风险提示 报告期内,不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在报告中详细描述可能存在的相关风险,敬请查阅第三节管

2、理层讨论与分析“五、风险因素”部分内容。3 3 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性性、准确、准确性性、完整完整性性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。4 4 公司全体董事出席董事会会议。公司全体董事出席董事会会议。5 5 普华永道中天会计师事务所(特殊普通合伙)普华永道中天会计师事务所(特殊普通合伙)为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。6 6 公司上

3、市时未盈利且尚未实现盈利公司上市时未盈利且尚未实现盈利 是 否 7 7 董事会决议董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 考虑到公司目前处于快速发展期,研发投入等资金需求较大,为更好地维护全体股东的长远利益,公司2021年度不分配利润,资本公积不转增。以上利润分配预案已经公司第二届董事会第五次会议审议通过,该预案尚需公司2021年年度股东大会审议通过。8 8 是否是否存在存在公司治理特殊安排等重要事项公司治理特殊安排等重要事项 适用 不适用 第二节第二节 公司基本情况公司基本情况 1 1 公司简介公司简介 公司股票简况公司股票简况

4、 适用 不适用 公司股票简况 股票种类 股票上市交易所及板块 股票简称 股票代码 变更前股票简称 A股 上海证券交易所科创板 中微公司 688012 不适用 公司公司存托凭证存托凭证简简况况 适用 不适用 联系人和联系方式联系人和联系方式 联系人和联系方式 董事会秘书(信息披露境内代表)证券事务代表 姓名 刘晓宇 胡潇 办公地址 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 电话 021-61001199 021-61001199 电子信箱 IR IR 2 2 报告期公司主要业务简介报告期公司主要业务简介(一一)主要业务、主要产品或主要

5、业务、主要产品或服务服务情况情况 报告期内,公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。公司瞄准世界科技前沿,基于在半导体设备制造产业多年积累的专业技术,涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED 外延片生产、功率器件、MEMS 制造以及其他微观工艺的高端设备领域。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司 MOCVD 设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列的氮化镓基 LED 设备制造商。公司主要为集成电路、LED 外延片、功率器件、MEMS 等半

6、导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD 设备及其他设备,其中主要产品的具体情况如下:1、刻蚀设备、刻蚀设备 产品类别产品类别 图示图示 应用领域应用领域 电容性等离子体刻蚀设备 主要应用于集成电路制造中氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等电介质材料的刻蚀 电感性等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备 主要应用于在集成电路制造中单晶硅、多晶硅以及多种介质等材料的刻蚀 产品类别产品类别 图示图示 应用领域应用领域 主要应用于 CMOS 图像传感器、MEMS 芯片、2.5D 芯片、3D 芯片等通孔及沟槽的刻蚀 2、MOCVD 设备设备 产品类别产品类别 图示图示 应用领域应用领域 MOCVD 设备 蓝绿光及

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