1、中微公司中微公司(688012)(688012)深度报告：深度报告：刻蚀设备领军企业，内生外延打造平台型公司刻蚀设备领军企业，内生外延打造平台型公司评级：买入(维持)证券研究报告2024年12月30日半导体姚丹丹(证券分析师)郑奇(证券分析师)李惠(联系人)S0350524060002S0350524030006S 相对沪深300表现表现1M3M12M中微公司-10.8%20.7%29.2%沪深3002.1%-0.5%16.6%最近一年走势相关报告中微公司（688012）2024年中报点评：2024H1签单高增，平台化布局加速（买入）2024-08-26-35%-15%4%23%43%62%2

2、023/12/27中微公司沪深300市场数据2024/12/30当前价格（元）198.0052周价格区间（元）104.92-256.99总市值（百万）123,228.02流通市值（百万）123,228.02总股本（万股）62,236.37流通股本（万股）62,236.37日均成交额（百万）1,686.87 pUtWrUxVoPnPoN8O8QaQpNpPmOnRiNpOnPkPsRnM7NnNwPvPsOtMuOnQqR请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明3核心提要核心提要u 刻蚀刻蚀设备设备领军企业，多领域布局打开成长空间。领军企业，多领域布局打开成长空间。中微公司主营刻蚀、薄膜沉积等半

3、导体设备，下游涵盖集成电路、先进封装、LED外延片等领域，其半导体设备已被广泛应用于国际一线客户从65nm到5nm及更先进的芯片加工工艺。u CCPCCP刻蚀国产龙头，刻蚀国产龙头，ICPICP刻蚀稳步突破刻蚀稳步突破。公司已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖，ICP刻蚀设备也已在逻辑、DRAM、3D NAND、功率和电源管理以及微电机系统等芯片和器件的60多条客户的生产线上量产，并持续进行更多刻蚀应用的验证。u 薄膜沉积设备顺利推进，量测检测设备持续布局。薄膜沉积设备顺利推进，量测检测设备持续布局。根据公司2023年报，公司近两年开

4、发的LPCVD及ALD设备已有四款进入市场，其他十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场；此外公司通过投资布局了光学检测设备板块，并计划开发电子束检测设备，未来将不断扩大对多种检测设备的覆盖。u 投资建议：投资建议：预计公司2024-2026年营收分别为87亿元、116亿元、150亿元，同比增速分别为40%、32%、29%，归母净利润分别为18亿元、25亿元、32亿元，同比增速分别为1%、37%、30%，对应当前市值的PE分别为68倍、50倍、38倍。公司是国产刻蚀设备龙头，在刻蚀、薄膜沉积及量测检测设备领域均有布局。我们维持公司“买入”评级。u 风险提示：风险提示：下游晶圆厂扩产不及预期、新设

5、备验证进度不及预期、行业竞争程度超预期、毛利率提升不及预期、海外上游零部件断供风险、汇率波动风险。请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明41 1、刻蚀设备领军企业，内生外延三维发展、刻蚀设备领军企业，内生外延三维发展 请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明5资料来源：公司官网、公司公告、国海证券研究所u公司于公司于20042004年开始运营，随后开启了产品品类的持续扩张之路：年开始运营，随后开启了产品品类的持续扩张之路：公司于2007、2010、2012、2016、2017年分别研制成功了首台CCP刻蚀设备、首台TSV设备、首台MOCVD设备、首台VOC设备、首台双反应台ICP刻蚀设备；同

6、时公司对刻蚀设备进行持续迭代，于2011、2013和2016年分别研制成功了45nm、22nm和7nm介质刻蚀设备，于2017年成功进入国际先进7nm产线，2021年顺利付运首台8英寸CCP刻蚀设备；此外，公司在沉积设备领域持续发力，2022年首台CVD钨设备付运客户，2024年新产品LPCVD设备实现首台销售。u在投融资方面，公司于2014年成为第一家“大基金”投资的企业，2015年完成对拓荆的投资，最终于2019年成为科创板首批上市公司。1.1 1.1 国产刻蚀设备领军者，产品品类持续扩张国产刻蚀设备领军者，产品品类持续扩张图表：公司图表：公司发展历程发展历程20042004首台首台CCP