1、 请务必阅读正文后的声明及说明请务必阅读正文后的声明及说明 Table_Info1 微导纳米微导纳米(688147)电力设备电力设备 Table_Date 发布时间：发布时间：2024-08-05 Table_Invest 买入买入 上次评级：买入 股票数据 2024/08/02 6 个月目标价（元）收盘价（元）24.34 12 个月股价区间（元）22.6551.06 总市值（百万元）11,139.89 总股本（百万股）458 A 股（百万股）458 B 股/H 股（百万股）0/0 日均成交量（百万股）1 Table_PicQuote 历史收益率曲线 Table_Trend 涨跌幅（%）1M

2、3M 12M 绝对收益 4%-23%-49%相对收益 6%-17%-34%Table_Report 相关报告 康普化学：全球铜萃取剂领先企业，有望受益于铜价上涨-2024.05.14 云路股份：盈利能力稳步增长，非晶电机前景广阔-2023.11.20 Table_Author 证券分析师：证券分析师：赵丽明赵丽明 执业证书编号：S0550521100004 010-63210892 证券分析师：证券分析师：赵宇天赵宇天 执业证书编号：S0550524020002 010-63210892 证券分析师证券分析师：李玖李玖 执业证书编号：S0550522030001 17796350403 Tab

3、le_Title 证券研究报告/公司深度报告 微导纳米：深耕微导纳米：深耕 ALD 用于光伏半导体，步步为营推出用于光伏半导体，步步为营推出 CVD 设备设备 报告摘要：报告摘要：Table_Summary 公司公司是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD 等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与应用，已开发出适用于光伏、半导体等应用领域的多款薄膜沉积设备，涵盖 ALD、PEALD 二合一、PECVD 系列产品，并提供配套产品及服务。AL

4、D 技术广泛适用于不同环境下的薄膜沉积。技术广泛适用于不同环境下的薄膜沉积。CVD 与 PVD 工艺存在厚度控制和膜层均匀性的问题，生成的膜很难突破 10nm 以下的厚度极限。此外，在深宽比达到 10:1 以上时，CVD 与 PVD 工艺无法保证下游工艺需要的近 100%覆盖率的技术要求。与之相比，由于 ALD 技术的表面化学反应具有自限性，因此拥有优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点，在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。薄膜沉积设备是太阳能电池片制造环节的关键设备，其制备的薄膜直接薄膜沉积设备是太阳能电池片

5、制造环节的关键设备，其制备的薄膜直接影响电池片的光电转换效率。影响电池片的光电转换效率。TOPCon、HJT 等 N 型电池进入规模化推广应用阶段，根据电池不同工艺和所需的薄膜性质，所采用的薄膜沉积设备会有所不同。TOPCon 电池生产线除原钝化和减反膜的沉积需求外，还增加了隧穿层和掺杂多晶硅层镀膜需求。HJT 电池制造环节中的非晶硅沉积设备和透明导电薄膜设备均需要用到薄膜沉积设备。未来，随着N 型电池技术的不断成熟，将会催生出更多的设备需求，薄膜沉积设备在 N 型电池产线建设中的投资比重也有望增加。晶圆制造环节中，薄膜沉积设备制备的各类薄膜发挥着导电、绝缘、阻晶圆制造环节中，薄膜沉积设备制备

6、的各类薄膜发挥着导电、绝缘、阻挡污染物等重要作用，直接影响半导体器件性能。挡污染物等重要作用，直接影响半导体器件性能。公司半导体设备在新型存储和硅基 OLED 领域已取得开创性进展，客户类型涵盖了逻辑、存储、化合物半导体、硅基 OLED 等。未来，制程的不断提高以及存储技术、新型半导体材料制备技术和多重曝光技术的快速发展，将对薄膜沉积设备产生更多的需求。盈利预测与投资评级：盈利预测与投资评级：预计 2024-2026 年公司营业收入分别为39.99/50.17/57.15 亿元，归母净利润分别为 5.86/7.71/9.86 亿元。公司新签订单快速增长，半导体设备持续突破，盈利能力有望提升，给