1、分析师分析师联系人联系人李鲁靖李鲁靖登记编号：S1220523090002王昊哲王昊哲半导体设备专题报告（一）：前道设备扼喉之手，亟待突破机 械 团 队机 械 团 队 行 业 深 度 报 告行 业 深 度 报 告证券研究报告|机械设备|2024年06月14日报告摘要 兼具周期与成长的千亿美金大赛道即将迎来上行周期，国内亟需进口替代：兼具周期与成长的千亿美金大赛道即将迎来上行周期，国内亟需进口替代：半导体设备作为行业基石，2023年市场规模达到1062.5亿美元，全球半导体产业发展呈现周期性，中期库存周期来看，2024年全球半导体资本开支有望上修，设备将迎来上行周期。长期来看，半导体设备规模扩张

2、看技术节点的进步，国际上对我国实施先进制程的设备禁运，倒逼国产化率提升，国产半导体设备厂商成长空间充足。前道制程的工艺模块可以归类为前段工艺（FEOL）、中段工艺（MOL）和后段工艺（BEOL），前段工艺负责形成器件、后段工艺负责形成金属互连，中段工艺将器件与金属层连接起来。模块工艺是由不同的单项工艺组合而来，单项工艺包括光刻、涂胶显影、薄膜沉积、刻蚀、离子注入、CMP、清洗等，其中薄膜沉积、刻蚀和光刻设备是价值量最大的三类设备：1.1.薄膜沉积：薄膜沉积：半导体制造过程中需要反复进行薄膜生长，不同工艺环节沉积的薄膜作用不同，所用工艺也不同，总体来看，沉积工艺可以分为物理气相沉积和化学气相沉积

3、，原子层气相沉积本质上属于化学气相沉积，是应新技术或材料而生的沉积工艺。制程进步+存储芯片架构3D化为提升薄膜沉积设备需求，2022年全球薄膜设备总市场已经达到229亿美元，主要由欧美和日系厂商垄断，应用材料是PVD龙头，Lam在ECD领域一家独大，TEL和ASM在ALD领域市占率较高，国内各厂商产品可以互补：拓荆科技主要产品为PECVD，还布局了ALD、SACVD和HDPCVD，北方华创在PVD上优势明显；微导纳米以ALD为核心产品；中微公司起家于刻蚀，依托底层技术进入薄膜沉积领域，产品布局包括MOCVD、WCVD等；盛美上海在ECD领域优势明显。2.2.刻蚀：刻蚀：使用物理或者化学的方法在

4、器件表面形成微观结构，制程微缩+存储芯片3D化引起刻蚀难度和需求量增大，2022年全球干法刻蚀设备市场规模大概为230亿美元，ICP和CCP几乎平分超95%市场份额。Lam，TEL和AMAT几乎垄断全球干法刻蚀设备市场，国内主要由中微公司和北方华创进行突破，前者优势产品为CCP，后者优势产品为ICP，二者在发展过程中向对方领域渗透。3.3.光刻：光刻：ASML系全球龙头，掌握最先进的EUV光刻技术，ASML和Nikon均可以提供浸没式DUV光刻机，国内近乎空白。4.4.涂胶显影：涂胶显影：光刻工艺中除了曝光之外的关键环节，分为offline和inline设备，2021年全球涂胶显影设备超30亿

5、美元，TEL垄断近乎90%份额，国产厂商中芯源微率先取得突破，可以实现28nm以上工艺节点全覆盖。5.5.掺杂：掺杂：改变半导体材料的物理性质，离子注入工艺是主流，全球半导体离子注入设备市场规模主要被美国的AMAT和Axcelis占据，国产厂商主要是凯世通（万业企业子公司）、芯嵛半导体（华海清科参股）和中科信。6.6.热处理：热处理：包括氧化、扩散和退火，相关设备又叫做炉管设备，其中快速退火设备市场份额较大，AMAT占据全球市场的主要份额，国产厂商中，屹唐股份处于领先位置；北方华创布局多种氧化/扩散炉。7.7.CMPCMP：化学机械抛光，全球CMP设备市场处于高度垄断状态，主要由美国应用材料和

6、日本荏原两家设备制造商占据，两家制造商合计拥有全球 CMP 设备超过 90%的市场份额，尤其在 14nm 以下最先进制程工艺的大生产线上所应用的 CMP 设备仅由两家国际巨头提供。国产 CMP 设备厂商主要是华海清科和烁科精微，华海清科CMP设备已广泛应用于中芯国际、长江存储、华虹集团、大连英特尔、厦门联芯、长鑫存储、广州粤芯、上海积塔等行业内领先集成电路制造企业的大生产线，占据国产 CMP 设备销售的绝大部分市场份额。8.8.清洗：清洗：针对不同的工艺需求对晶圆表面进行无损伤清洗，是贯穿半导体产业链的重要工艺环节，能避免杂质影响芯片良率和芯片产品性能。湿法清洗是主流技术路线，DNS、TEL、