拓荆科技-公司研究报告-国内半导体薄膜沉积设备龙头身处快速成长期-231120（24页）.pdf

1、电子&半导体 2023年 11月 20日 拓荆科技(688072.SH)国内半导体薄膜沉积设备龙头，身处快速成长期 请通过合法途径获取本公司研究报告，如经由未经许可的渠道获得研究报告，请慎重使用并注意阅读研究报告尾页的声明内容。公司报告 公司首次覆盖报告 推荐（首次）推荐（首次）股价：股价：242.69 元元 主要数据主要数据 行业 电子 公司网址 大股东/持股 国家集成电路产业投资基金股份有限公司/19.86%实际控制人 总股本(百万股)187 流通 A 股(百万股)102 流通 B/H 股(百万股)总市值（亿元）456 流通 A 股市值(亿元)248 每股净资产(元)21.79 资产负债率

2、(%)53.7 行情走势图行情走势图 证券分析师证券分析师 付强付强 投资咨询资格编号 S1060520070001 FUQIANG 徐勇徐勇 投资咨询资格编号 S1060519090004 XUYONG 研究助理研究助理 陈福栋陈福栋 一般证券从业资格编号 S1060122100007 CHENFUDONG 郭冠君郭冠君 一般证券从业资格编号 S1060122050053 GUOGUANJUN 平安观点：国内薄膜沉积设备龙头，国内薄膜沉积设备龙头，目前处于快速成长期。目前处于快速成长期。公司成立于 2010 年，专注半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品包括PECVD、AL

3、D 和 SACVD 等，2022 年 4 月在科创板上市。业绩方面，2018-2022 年，公司营收从 0.71 亿元增长到 17.06 亿元，期间 CAGR 为121.67%，2023 年前三季度，公司营收为 17.03 亿元，同比增长71.71%，业绩增长势头较为迅猛；此外，2020-2022 年，公司合同负债从1.34亿元增长到13.97亿元，期间CAGR为222.53%，2023年前三季度，公司合同负债为 14.97 亿元，同比增长 62.29%，公司快速增长的合同负债一定程度上反映出公司订单较为充裕，未来业绩持续增长的确定性较强。薄膜沉积设备市场格局优越，国产替代空间广阔薄膜沉积设备

4、市场格局优越，国产替代空间广阔。目前国内晶圆厂扩产节奏较快，对上游薄膜沉积设备带来了旺盛的市场需求，并且当前海外对中国半导体设备的制裁依旧持续，国产替代主线火热。从市场格局看，薄膜沉积设备市场主要由 AMAT、TEL、ASM 等海外厂商占据，垄断性强，国产化率仍处于较低水平，国内厂商面对的可替换市场空间较大，且目前国内薄膜沉积设备厂商大都处于起步阶段，体量小，在国产化替代趋势推动下，成长潜力将逐步显现。公司薄膜沉积设备卡位优势明显，平台化布局雏形已现公司薄膜沉积设备卡位优势明显，平台化布局雏形已现。公司目前拥有PECVD、SACVD、ALD、HDPCVD、键合设备等较为丰富的产品系列，部分产品

5、已适配国内 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片和 64/128层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线，并成功实现产业化应用或验证。PECVD是公司核心产品，公司自成立以来就开始研制 PECVD设备，经过十余年的研发和产业化经验，目前已经实现了全系列 PECVD 薄膜材料的覆盖，卡位优势明显；以此为基础，公司将薄膜沉积设备逐渐拓展到SACVD、ALD、HDPCVD 等设备领域，进一步丰富了薄膜沉积设备组合，目前三种设备中的部分产品型号已实现产业化应用；此外，公司关注芯片三维集成趋势，聚焦混合键合设备，其晶圆对晶圆键合产品也已实现产业化应用。公司在薄膜沉积设备领域构建了

6、较为丰富的产品组合，并积2021A 2022A 2023E 2024E 2025E 营业收入(百万元)758 1706 2851 4227 5353 YOY(%)74.0 125.0 67.2 48.3 26.6 净利润(百万元)68 369 498 778 1097 YOY(%)696.1 438.1 35.1 56.3 40.9 毛利率(%)44.0 49.3 49.9 50.4 50.9 净利率(%)9.0 21.6 17.5 18.4 20.5 ROE(%)5.7 9.9 11.9 15.7 18.2 EPS(摊薄/元)0.37 1.97 2.66 4.16 5.86 P/E(倍)66