微导纳米-公司研究报告-光伏与半导体设备系列报告：先进薄膜设备供应商光伏半导体齐开花-230613（50页）.pdf

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2、 设备龙头，并全力推进工艺整线策略提升产品覆盖价值量，有望充分受益于 TOPCon 电池大扩产实现订单的快速增长。半导体领半导体领域域：公司实现了国产 ALD 设备在 28nm 集成电路制造关键工艺（高介电常数栅氧层材料沉积环节）中的突破，并基于客户关键工艺开发的战略需求拓展 CVD 设备打开市场空间，彰显了公司在半导体薄膜沉积设备领域平台化拓展的能力。在国产化进程加速以及先进制程发展的趋势下，薄膜沉积设备重要性将持续提升，公司凭借技术和工艺积累，有望实现订单和业绩的快速增长。摘要摘要 先进薄膜沉积设备供应商先进薄膜沉积设备供应商，研发驱动，研发驱动产品产品多元布局多元布局 微导纳米是一家面向

3、全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商，形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，CVD 等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系。目前已开发出多款薄膜沉积设备，涵盖 ALD、PEALD 二合一、PECVD 等系列产品，下游应用领域包括半导体、光伏、新型显示、微机电等领域。公司高度重视研发，研发支出从 2018 年的 0.35 亿元大幅提升至 2022 年的 1.38 亿元，年复合增速达到 41.34%。核心技术人员具有坚实的研发背景和多年技术研发经验，带领公司不断打破技术壁垒、实现突破，并积极推动成果在光伏、半导体等领域实现产业化应用。首席技术官 LI WEI MIN 博士拥有 25年以上原子层

4、沉积技术的研发和产业化经验，是最早开始研究ALD 技术的华人之一，指导实现了公司 ALD 技术在光伏领域的产业化，并推广至半导体等其他领域。薄膜沉积技术应用广泛，薄膜沉积技术应用广泛，ALD 工艺镀膜效果优异工艺镀膜效果优异 薄膜沉积设备按照工艺原理不同可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）三种工艺，满足不同材料的镀膜要求。基于 ALD 技术表面反应具有自限性的特点，其拥有多项独特的薄膜沉积特性：三维共形性，广泛适用于不同形状的基底；大面积成膜的均匀性，且致密、无针孔；可实现亚纳米级的薄膜厚度控制，因此 ALD 技术在诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。首

5、次评级首次评级 增持增持 吕娟吕娟 021-68821610 SAC 编号:s1440519080001 SFC 编号:BOU764 研究助理：籍星博研究助理：籍星博 研究助理：陈宣霖研究助理：陈宣霖 发布日期：2023 年 06 月 13 日 当前股价：49.66 元 主要数据主要数据 股票价格绝对股票价格绝对/相对市场表现（相对市场表现（%）1 个月 3 个月 12 个月 9.99/12.43 41.93/41.96/12 月最高/最低价（元）54.80/25.08 总股本（万股）45,445.54 流通 A 股（万股）3,758.91 总市值（亿元）225.68 流通市值（亿元）18.6

6、7 近 3 月日均成交量（万）376.63 主要股东 无锡万海盈投资合伙企业(有限合伙)51.18%股价表现股价表现 -9%11%31%51%71%91%111%微导纳米上证指数微导纳米微导纳米(688147.SH)(688147.SH)A 股公司深度报告 微导纳米微导纳米 请参阅最后一页的重要声明 光伏设备：光伏设备：ALD 设备设备龙头充分受益于龙头充分受益于 TOPCon 扩产，丰富产品矩阵打开成长空间扩产，丰富产品矩阵打开成长空间 目前光伏行业正处于 N 型电池逐步替代 P 型电池的技术变革期，以 TOPCon 为主的新型高效电池需求将持续推动光伏薄膜沉积设备市场空间提升。公司作为 A